也算是达到了目的的一半。
光刻技术起源于1950年代，最初用于制造晶体管和简单半导体器件。1957年，德州仪器就开始将光刻技术应用于硅晶圆，取代了手工掩模和化学蚀刻的低效方法。
但此时的华国没有商用光刻机，只能依赖简易的实验性曝光设备。
光刻胶、蚀刻液和掩模材料这些自己有产能，能造，无非是好用不好用的区别。
但曝光光源和光学镜头这两块，华国压根没办法获取。
因此东德把合作领域限制在光学，由大名鼎鼎的蔡司牵头的时候，黄昆和钱院长汇报道：
“东德果然还是上钩了。”
👉&128073; 当前浏览器转码失败：请退出“阅读模式”显示完整内容，返回“原网页”。